Kombinierte PVD-/CVD-Beschichtungsanlage

Eine kombinierte PVD-/CVD-Beschichtungsanlage der Fa. PT&B mit zwei Targets Größe 500 x 125 mm sowie vier runden Targets mit d=100 mm ermöglicht die gleichzeitige Abscheidung mehrere Metalle und den Aufbau von Multilagenschichten (Abb. 55). Substrate bis 400 mm Höhe können gleichförmig beschichtet werden. Zur Schichtentwicklung können je der zwei runden Targets gesondert betrieben werden.
Über ein dreistufiges Vakuumpumpsystem aus Drehschieber-, Roots- und Turbopumpe lassen sich beliebige Prozessdrücke einstellen. Ferner verfügt die Anlage über eine RF-Quelle, mittels der CVD-Beschichtungen, z.B. DLC-Schichten, hergestellt werden können. Auch eine Kombination von PVD- und CVD-Beschichtung ist möglich.
Der Probenteller ist mit einem Satellitenantrieb für sechs Einzelproben ausgestattet.
Schichtdicken können mit einem Ellipsometer der Fa. Sentech bestimmt werden.
Hergestellt werden katalytisch aktive Schichten mit hoher spezifischer Oberfläche, Korrosionsschutzschichten und Mehrlagenschichten zur Verbesserung der Diffusionsschweißbarkeit. DLC-Schichten dienen zur Einstellung von Benetzungseigenschaften.
 

Abb. 55: Kombinierte PVD-/CVD-Beschichtungsanlage.